Adv. Electron. Mater.以硅纳米线诠释科技感封面艺术
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本文撰稿：Vivian
封面设计师：Error 学术支持：Enya
项目编号：20190505f-1
2019年7月份， 南京大学余林蔚教授在期刊Adv. Electron. Mater.上发表文章，此次松迪设计的图像被选为期刊封面，让我们走进今天的封面故事。
图1.Adv. Electron. Mater.期刊封面
构建3D电子学是一种很有发展前途的方法，可以将更多的功能集成到给定的内存中。为此，堆叠多层硅纳米线(SiNWs)是构建高密度三维电子器件的理想多层通道。
有序横向的SiNWs三维矢量自组装生长是直接在倾斜或垂直侧壁上完成，而传统的光刻技术很难解决这一问题。
这种方法由铟液滴引导，它们吸收涂在侧壁上的非晶态硅薄膜，在仅350°C的温度下产生SiNWs堆积。在多层或交替蚀刻方法形成的侧壁平台的指导下，可以容易地批量生产超长支撑或悬挂的多级SiNW叠层。
在本次封面中，由于涉及3D电子技术，因此松迪选择了比较具有科技感、未来感的设计。
图像立体地展示了SiNWs三维矢量生长在倾斜或垂直侧壁上的状态，既紧扣了文章的实验过程，同时也使得整体封面元素较为单一简洁，更好地突出了主体元素。
在颜色运用方面，选择以金属色作为主体颜色，一方面制造出了炫酷的视觉冲击效果，极具3D立体感；与此同时将铟液滴绘制成蓝色，起到提亮整体色调的效果。
通过这种技术，鳍栅结构的原型堆叠多SiNWs沟道晶体管也被制造出来，并展示了令人印象深刻的高离子/Ioff电流比>107、60 cm2/V−1 s−1的空穴迁移率和相当低的泄漏电流。
这些结果突出了纳米液滴辅助自组装生长在构建更复杂和先进的三维叠加通道电子器件方面的独特潜力和通用性。
松迪很荣幸有机会见证这一领域的不断发展！
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