武汉理工麦立强教授、吴劲松教授、周亮教授 Adv. Mater.: 纳米硅负极容量衰减机制和提升策略新进展
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图6. 结构完整性的非原位表征。a, b, Si@SiOx/C (a)的HAADF/BF-STEM图像,以及Si@SiOx/C在1.0 A g-1下50个周期后的EDX映射(b); c, d,典型NPs的HAADF/BF-STEM图像,内嵌是来自标记表面积(c)的放大图像,以及相应的EDX映射(d); e,从(e)、f中标记的区域收集的EDX光谱,Si@SiOx/C在(脱)锂化过程中的形态演化示意图。
综上,此项研究首先揭示了Si NPs的快速容量衰减机制: Si NPs的团聚伴随着电解液的分解,两者相互作用导致了密实的Si/SEI块体混合物的快速形成,阻碍了电子传导并造成大量死硅产生。为解决这一问题,研究人员针对性采取了结构设计措施,即在Si NPs表面包覆了一层亚纳米尺度复合的SiOx/C材料。这种包覆层具有电子/离子双传输通道,并自发形成连续的支撑骨架结构。这种结构设计防止了Si NPs的团聚,完全隔绝了Si NPs与电解液的接触,还同时保持了快速的电子/离子传输动力学。亚纳米尺度的SiOx/C复合结构展现出优异的机械性能,即便在剧烈的体积变化下(~300%),也依然能良好地包覆在Si NPs上。基于这一结构设计,Si@SiOx/C取得了高容量、长循环的特性。这一工作为理解纳米Si的结构劣化,并针对性提出解决策略提供了关键见解。
原文链接https://doi.org/10.1002/adma.202306504
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