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Zhao Chen,Zhikuo Liu,Juan Carlos Suárez Serrato,Daniel Yi Xu,2021,Notching R&D Investment with Corporate Income Tax Cuts in China, American Economic Review, 第4期We study a Chinese policy that awards substantial tax cuts to firms with R&D investment over a threshold or "notch." Quasi- experimental variation and administrative tax data show a significant increase in reported R&D that is partly driven by firms relabeling expenses as R&D. Structural estimates show relabeling accounts for 24.2% of reported R&D and that doubling R&D would increase productivity by 9%. Policy simulations show that firm selection and relabeling determine the cost-effectiveness of stimulating R&D, that notch-based policies are more effective than tax credits when relabeling is prevalent, and that modest spillovers justify the program from a welfare perspective.
2017年在复旦大学中国社会主义市场经济研究中心(CCES)举办的“资源错配”专题讨论会上杜克大学的徐熠教授就讨论了这篇文章。链接:https://econ.fudan.edu.cn/info/1024/3608.htm;当然,作者还在国内不少高校(包括香港高校)都讲过这篇文章,收到了很多反馈意见和建议。背景知识:视频和文字形式专访杜克大学终身教授徐熠谈中国经济研究
美国杜克大学徐熠教授的题目是“Notching R&D Investment with CorporateIncome Tax Cuts in China”。经济学家普遍认为,研发是增长的引擎,因此政府往往使用税收激励来补贴私人部门的研发活动。徐教授的研究希望定量分析税收激励是否增加了研发投资;并且,企业对研发投资的重视程度如何,换句话说就是研发活动对生产效率和盈利性的作用是怎样的;另外,研究希望探索研发活动的社会回报问题。研究以中国政府针对高科技企业实施的InnoCom税收激励项目为案例,为税收激励对研发投资、利润和其他管理支出费用化的影响提供了思考的框架。研究数据由三部分组成,一是中国工业企业数据库2006—2007,二是全国税收调查数据库2008—2011,三是InnoCom计划企业名录2008—2014。研究发现,即使考虑到其他管理支出费用化问题,InnoCom项目对企业层面的生产效率和盈利能力都有显著的促进作用。结论认为,一旦区分真实的研发与管理支出的费用化,中国高新技术企业的研发投入回报就显著提高,这充分肯定了中国研发投入的有效性,也同时提醒学者,在同类研究中,需要特别注意管理支出费用化对结论的误导。
降税与企业研发
摘要:我们研究了中国的一项税收激励政策(高新技术企业认定),该政策对研发投资超过门槛或制度断层点(notch)的企业给予了实质性的减税。基于准自然实验的变化和行政税收数据的分析表明,报告的企业研发显著增加,这部分地是由企业将其他费用支出重新标记为研发费用所导致的。结构估计表明,重新标记占企业报告的研发费用的24.2%,同时,若企业的真实研发投入翻番将使其生产率提高9%。政策模拟表明,企业选择和重新贴标决定了刺激研发的成本效益,在重新贴标盛行时,基于断层点的政策比税收抵免更有效,适度的溢出效应从福利角度证明了该计划的合理性。简要介绍:
创新对经济增长至关重要的信念激励着世界各国政府通过税收激励鼓励研发投资。虽然这些激励措施旨在刺激实际研发支出,但企业经理也可以通过将其他支出重新标记为研发支出来应对。重新标记提出了税收激励如何影响生产率增长的重要问题。在多大程度上报告研发是真实的或重新标记的?重新标记如何影响对企业研发的生产率效应的估计?当考虑到重新标记行为的存在时,政府如何激励企业研发呢?我们使用一个新颖的中国企业纳税申报管理数据集来回答这些问题,该数据集涵盖了一个急剧变化的税收优惠时期。中国是研究财政激励企业研发的完美实验室。图1显示,即使相对于其快速的GDP扩张,中国的研发投资也呈现出爆炸式增长。此外,政府还致力于培育技术密集型产业,作为未来经济增长的源泉。我们研究的“InnoCom(高新技术企业)”的税收激励为那些报告的研发投资超过给定阈值或水平的企业提供了实质性的企业所得税减免。2008年之前,研发强度(研发投资超过收入)超过5%的企业有资格获得特殊的高技术企业所得税地位,并伴随较低的平均税率15%(比法定的33%降低幅度很大)。2008年之后,政府为不同规模的企业设立了三个门槛,分别为3%、4%和6%。通过改变平均税率,而不是边际激励,该计划为很大程度上激励企业去增加所报告的研发投资。第2节描述了这种财政激励,并讨论了重新标记研发投资的可能性。我们在第3节开始分析时,以图表的方式说明了税率等级对报告的研发强度分布有显著影响。我们发现,大量的企业选择在税收水平上定位,减税政策的实施导致了研发投入的大幅增加。利用一组在2008年之前未被发现的企业,我们证明了聚束模式(bunching)是由税收激励驱动的,而不是数据的虚假特征。我们使用聚束估计法量化了税收断层点导致的研发投资增长百分比(Kleven和Waseem,2013)。我们发现,2011年研发投资大幅增长,大型企业增长25%,中型企业增长17%,小型企业增长10%。然后,我们利用中国会计准则将""研发作为管理费用的一个子类进行报告""这一事实,分析企业重新贴标签的响应行为。使用我们的详细税务数据将研发与其他管理费用分开,我们提供了图形化证据,表明企业可以将非研发费用重新标记为研发费用,以符合减税条件。具体而言,我们发现非研发费用在研发断层点处显著下降,这表明报告研发费用的增加部分是由非研发费用的重新标记驱动的。我们还研究了其他形式的操纵,包括重新标记其他费用以及重新调整销售,但我们没有发现沿着这些利润操纵的证据。在第4节中,我们建立了一个研发投资和重新标记的模型。企业研发投资或重新贴标签的决定取决于税收优惠、研发对生产率的影响、重新贴标签的成本以及异质生产率和调整成本。该模型表明,InnoCom项目会激励原本处于研发强度分布低端的企业聚束在断层点处。模型中的公司可以通过增加实际研发投资或重新标记非研发费用从而达到在此处聚束的目的。最优的真实研发投资决策和重贴标签策略取决于重贴标签成本的相对强度和研发的生产率弹性,我们的模型考虑了丰富的企业异质性模式。首先,企业面临研发投入的异质调整成本,这使得高度分散的研发强度分布合理化。第二,该模型考虑了随机认证成本,该成本解释了InnoCom项目的非研发需求,并解释了接近断层点的企业可能不参与该项目的原因。总的来说,该模型捕捉到了聚束真实研发与重新标记的竞争机制,并且足够丰富,能够显示数据的主要特征。在第5节中,我们使用模拟的矩估计法(simulated method of moments)来估计模型。模型的主要参数——研发的生产率弹性和重新标记的成本是由报告研发中的聚束响应、断层点处的重新标记响应以及研发和生产率的联合分布决定的。通过指定固定成本和调整成本的分布,该模型还描述了企业如何选择方案,从而使我们能够研究替代策略的影响。我们估计,平均而言,报告的研发投资的24:2%是由于重新贴标签导致的,实际研发增加100%将使全要素生产率增加9%。我们的估计模型很好地拟合了数据矩。结构估计也与简化形式的聚束估计一致,这为模型提供了有价值的交叉验证。我们的结果很稳健,确保了我们的主要结论不受模型参数化的人为驱动。在第6节中,我们使用估计模型来研究政府如何在重新贴标的情况下最好地激励研发。我们首先研究了改变减税规模和断层点位置的影响。减税幅度较大、研发强度较低的政策选择生产率较低、调整成本较高、重新贴标动机较强的企业。企业对项目的选择在决定项目的经济效果和激励实际研发的规模成本方面起着至关重要的作用。作为模型的第二个用途,我们比较了InnoCom项目与线性税收抵免程序的财政效应。在企业重新贴标的动机较低的情况下,线性税收抵免在刺激研发方面更有效。然而,当企业可以重新贴标时,断层点可能比线性税收抵免更有效。关键的直觉是,在线性税收抵免下,政府的监测报告分散在许多企业身上,这降低了企业重新标记的成本。通过将监视端口集中在较少的企业身上,InnoCom式的项目可以提高重新标记的成本,并以较低的财政成本激励真正的研发。因此,各国政府可能更愿意在重新贴标签的情况下偏离标准激励(例如,Best等人,2015)。研发的财政激励通常是由企业在知识溢出的情况下对研发投资不足的可能性引起的。作为我们模型的最终应用,我们通过将我们的经验模型扩展到一个具有潜在研发溢出的均衡环境,来研究InnoCom项目的福利效应。在没有外部性的情况下,InnoCom项目会扭曲企业行为并减少税收,从而导致福利的整体减少。为证明InnoCom计划的合理性,然后我们计算研发溢出的大小。当溢出效应使得企业生产率提高6.9%以应对经济中平均研发投资翻番时,该计划是福利中性的。由于实证文献通常估计了更大的溢出效应(例如,Lucking、Bloom和Van Reenen,2019),InnoCom式的项目可能会改善福利,帮助缓解研发投资不足。总的来说,这篇论文表明,重新标记是一个重要的关注点,既了解有关研发的经验事实,又设计旨在鼓励创新的政策。重新标记影响实际研发费用的测度、研发对全要素生产率增长的贡献,以及税收激励如何将规模成本与经济增长联系起来。与标准税收抵免相比,在缓解研发投资不足方面,可能不太理想的政策(如断层点)可能更为有效,尤其是当此类政策针对技术改进前景较好的企业,并限制了重新贴标签的可能性时。本文结合大量文献分析了税收激励对研发投资的影响。Hall和Van Reenen(2000)以及Becker(2015)调查了这些文献。经验证据主要集中在OECD国家,在这些国家,有关风险管理创新和税收记录的微观层面数据越来越多。虽然早期的工作依赖于匹配和面板数据方法,但有一篇新兴文献探讨了研发税收激励准实验性变化的影响。这是第一篇分析中国等大型新兴经济体研发税收激励的论文。同时,也是第一篇利用行政税收数据研究财政激励、研发投资和企业生产率之间的关系的论文。以前的研究一直强调重新贴标签是识别研发税收激励效应的一个重要挑战(Eisner、Albert和Sullivan,1984;Mans eld和Switzer,1985)。对于发达国家的政策制定者来说,这是一个突出的问题(GAO,2009;Bloom,Van Reenen和Williams,2019),在发展中国家可能是一个更严重的问题。我们利用唯一的企业级数据来联合建模和估计企业研发聚束和重新标记决策。当企业可能参与重新标记时,我们的政策模拟还提高了我们对不同策略有效性的理解。研究者和政策制定者关注中国创新资源配置不当的程度。Wei,Xie和Zhang(2017)表明,国有企业每元投资所产生的专利数量明显少于外国或国内私人企业 。Konig等人(2018)认为,中国大陆的研发投资对生产率增长的影响小于台湾。我们的研究结果表明,报告的研发回报率似乎很低,这是重新贴标签的产物,在企业税执行不完善的新兴经济体,研发税收激励可能成本更高(Cai, Chen and Wang, 2018)。最后,我们的论文与最近的一篇文献相关,该文献通过分析猛烈的经济激励的影响,使用聚束方法来估计企业对税收的行为反应。虽然大多数文献研究的是应税收入的拐点(kink)或断层点,但InnoCom项目中的断层点针对的是一种特殊行为:研发投资。我们发展了一种模拟的矩估计方法,该方法与简化形式聚束估计的结果是一致的。根据Einav、Finkelstein和Schrimpf(2017)的建议,该模型明确了简化形式估计的解释。我们的模型量化了误报的程度,衡量了实际研发的回报,并模拟了替代政策的效果。该模型还说明了企业选择和重新标记如何确定财政有效性和基于断层点的福利。
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